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產(chǎn)品展示

光譜隨偏儀

簡要描述:光譜橢偏儀是一種用于探測薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)的光學(xué)測量設(shè)備。由于與樣品非接觸,對樣品沒有破壞且不需要真空,使得橢偏儀成為一種吸引力的測量設(shè)備。

  • 產(chǎn)品型號:JG-TP
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-10-08
  • 訪  問  量:2774
詳情介紹

一、光譜橢偏儀適用于材料范圍:

半導(dǎo)體、電介質(zhì)、聚合物、有機(jī)物、金屬、多層膜物質(zhì)等

二、光譜橢偏儀
技術(shù)參數(shù):

膜厚范圍

1nm~5um

厚度分辨度

0.1 nm

膜厚準(zhǔn)確度

1mm

光學(xué)參數(shù)

可得出:n(折射率)、k(吸收率)值

折射率精度

0.005

測量時(shí)間

3~15秒(典型10秒)

入射角度

70°(其它可選)

波長范圍

450 - 900 nm ( 380 - 780 nm 可選)

波長分辨率

4 nm

光斑大小

2×4 mm(200×400um可選)

樣品定位允許誤差

高度允許±1.5 mm,角度允許±1°。不需進(jìn)行樣品放置高度和角度調(diào)整

顯微鏡

可與顯微鏡匹配使用,用于同時(shí)觀察膜層和材料的微觀結(jié)構(gòu)

掃描測量

可以掃描測量,掃描范圍6英寸或12英寸

真空應(yīng)用

可以在真空和非真空環(huán)境中使用

三、光譜橢偏儀涉及領(lǐng)域行業(yè):

半導(dǎo)體、通訊、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、光學(xué)鍍膜、平板顯示器、科研、生物、醫(yī)藥…


四、光譜橢偏儀檢測范圍:

1、早些年,橢偏儀的工作波長為單波長或少數(shù)獨(dú)立的波長,zui典型的是采用激光或?qū)﹄娀〉葟?qiáng)光譜光進(jìn)行濾光產(chǎn)生的單色光源?,F(xiàn)在大多數(shù)的橢偏儀在很寬的波長范圍內(nèi)以多波長工作(通常有幾百個(gè)波長,接近連續(xù))。和單波長的橢偏儀相比,多波長光譜橢偏儀有下面的優(yōu)點(diǎn):可以提升多層探測能力,可以測試物質(zhì)對不同波長光波的折射率等。

2、光譜橢偏儀的光譜范圍在深紫外的142nm到紅外33µm可選。光譜范圍的選擇取決于被測材料的屬性、薄膜厚度及關(guān)心的光譜段等因素。例如,摻雜濃度對材料紅外光學(xué)屬性有很大的影響,因此需要能測量紅外波段的橢偏儀;薄膜的厚度測量需要光能穿透這薄膜,到達(dá)基底,然后并被探測器檢測到,因此需要選用該待測材料透明或部分透明的光譜段;對于厚的薄膜選取長波長更有利于測量。

五、光譜橢偏儀工作原理

1、給出了橢偏儀的基本光學(xué)物理結(jié)構(gòu)。已知入射光的偏振態(tài),偏振光在樣品表面被反射,測量得到反射光偏振態(tài)(幅度和相位),計(jì)算或擬合出材料的屬性。

2、入射光束(線偏振光)的電場可以在兩個(gè)垂直平面上分解為矢量元。P平面包含入射光和出射光,s平面則是與這個(gè)平面垂直。類似的,反射光或透射光是典型的橢圓偏振光,因此儀器被稱為橢偏儀。關(guān)于偏振光的詳細(xì)描述可以參考其他文獻(xiàn)。在物理學(xué)上,偏振態(tài)的變化可以用復(fù)數(shù)ρ來表示:

 3、其中,ψ和?分別描述振幅和相位。P平面和s平面上的Fresnel反射系數(shù)分別用復(fù)函數(shù)rp和rs來表示。rp和rs的數(shù)學(xué)表達(dá)式可以用Maxwell方程在不同材料邊界上的電磁輻射推到得到。

4、其中?0是入射角,?1是折射角。入射角為入射光束和待研究表面法線的夾角。通常橢偏儀的入射角范圍是45°到90°。這樣在探測材料屬性時(shí)可以提供*的靈敏度。每層介質(zhì)的折射率可以用下面的復(fù)函數(shù)表示

5、通常n稱為折射率,k稱為消光系數(shù)。這兩個(gè)系數(shù)用來描述入射光如何與材料相互作用。它們被稱為光學(xué)常數(shù)。實(shí)際上,盡管這個(gè)值是隨著波長、溫度等參數(shù)變化而變化的。當(dāng)代測樣品周圍介質(zhì)是空氣或真空的時(shí)候,N0的值通常取1.000。

6、通常橢偏儀作為波長和入射角函數(shù)的ρ的值(經(jīng)常以ψ和?或相關(guān)的量表示)。一次測量完成以后,所得的數(shù)據(jù)用來分析得到光學(xué)常數(shù),膜層厚度,以及其他感興趣的參數(shù)值。如下圖所示,分析的過程包含很多步驟。

7、可以用一個(gè)模型(model)來描述測量的樣品,這個(gè)模型包含了每個(gè)材料的多個(gè)平面,包括基底。在測量的光譜范圍內(nèi),用厚度和光學(xué)常數(shù)(n和k)來描述每一個(gè)層,對未知的參數(shù)先做一個(gè)初始假定。zui簡單的模型是一個(gè)均勻的大塊固體,表面沒有粗糙和氧化。這種情況下,折射率的復(fù)函數(shù)直接表示。但實(shí)際應(yīng)用中大多數(shù)材料都是粗糙或有氧化的表面,因此上述函數(shù)式常常不能應(yīng)用。

8、下一步,利用模型來生成Gen.Data,由模型確定的參數(shù)生成Psi和Detla數(shù)據(jù),并與測量得到的數(shù)據(jù)進(jìn)行比較,不斷修正模型中的參數(shù)使得生成的數(shù)據(jù)與測量得到的數(shù)據(jù)盡量*。即使在一個(gè)大的基底上只有一層薄膜,理論上對這個(gè)模型的代數(shù)方程描述也是非常復(fù)雜的。因此通常不能對光學(xué)常數(shù)、厚度等給出類似上面方程一樣的數(shù)學(xué)描述,這樣的問題,通常被稱作是反演問題。

9、zui通常的解決橢偏儀反演問題的方法就是在衰減分析中,應(yīng)用Levenberg-Marquardt算法。利用比較方程,將實(shí)驗(yàn)所得到的數(shù)據(jù)和模型生成的數(shù)據(jù)比較。通常,定義均方誤差為:

10、在有些情況下,zui小的MSE可能產(chǎn)生非物理或非*的結(jié)果。但是加入符合物理定律的限制或判斷后,還是可以得到很好的結(jié)果。衰減分析已經(jīng)在橢偏儀分析中收到成功的應(yīng)用,結(jié)果是可信的、符合物理定律的、精確可靠。

六、光譜隨偏儀器結(jié)構(gòu)構(gòu)造:

1、在光譜橢偏儀的測量中使用不同的硬件配置,但每種配置都必須能產(chǎn)生已知偏振態(tài)的光束。測量由被測樣品反射后光的偏振態(tài)。這要求儀器能夠量化偏振態(tài)的變化量ρ。

2、有些儀器測量ρ是通過旋轉(zhuǎn)確定初始偏振光狀態(tài)的偏振片(稱為起偏器)。再利用第二個(gè)固定位置的偏振片(稱為檢偏器)來測得輸出光束的偏振態(tài)。另外一些儀器是固定起偏器和檢偏器,而在中間部分調(diào)制偏振光的狀態(tài),如利用聲光晶體等,zui終得到輸出光束的偏振態(tài)。這些不同的配置的zui終結(jié)果都是測量作為波長和入射角復(fù)函數(shù)ρ。

3、在選則合適的橢偏儀的時(shí)候,光譜范圍和測量速度也是一個(gè)通常需要考慮的重要因素??蛇x的光譜范圍從深紫外的142nm到紅外的33µm。光譜范圍的選擇通常由應(yīng)用決定。不同的光譜范圍能夠提供關(guān)于材料的不同信息,合適的儀器必須和所要測量的光譜范圍匹配。

4、測量速度通常由所選擇的分光儀器(用來分開波長)來決定。單色儀用來選擇單一的、窄帶的波長,通過移動(dòng)單色儀內(nèi)的光學(xué)設(shè)備(一般由計(jì)算機(jī)控制),單色儀可以選擇感興趣的波長。這種方式波長比較準(zhǔn)確,但速度比較慢,因?yàn)槊看沃荒軠y試一個(gè)波長。如果單色儀放置在樣品前,有一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是明顯減少了到達(dá)樣品的入射光的量(避免了感光材料的改變)。另外一種測量的方式是同時(shí)測量整個(gè)光譜范圍,將復(fù)合光束的波長展開,利用探測器陣列來檢測各個(gè)不同的波長信號。在需要快速測量的時(shí)候,通常是用這種方式。傅立葉變換分光計(jì)也能同時(shí)測量整個(gè)光譜,但通常只需一個(gè)探測器,而不用陣列,這種方法在紅外光譜范圍應(yīng)用。

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